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當(dāng)前位置：首頁產(chǎn)品中心ME1等離子體去膠機(jī)

等離子體去膠機(jī)

產(chǎn)品簡介

等離子體去膠機(jī) 型號：ME1
為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大專院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。

產(chǎn)品型號：ME1
更新時間：2024-02-16
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
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等離子體去膠機(jī)型號：ME1

等離子體去膠機(jī)

是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡化改進(jìn)而來，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大**院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
　　整機(jī)基本配置和性能：
　　　　1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選），帶定時器1臺。 
　　　　2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺。帶真空計。 
　　　　3．載片臺尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
　　　　4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個質(zhì)量流量計，2路顯示。 
　　　　5．手動控制(可以選擇配置工藝過程自動控制)。

　　　　6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))

 是在（RIE）反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的基礎(chǔ)上簡化改進(jìn)而來，為小型等離子去膠機(jī)，具有體積小，性能優(yōu)良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復(fù)性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業(yè)及科研單位、大**院校的機(jī)型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝，同時有RIE刻蝕功能，可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
　　整機(jī)基本配置和性能：
　　　　1．激勵電源：13.56MHz 500W；帶匹配器和功率計各1臺（自動匹配可選），帶定時器1臺。 
　　　　2．真空系統(tǒng)：8升/秒機(jī)械泵1臺。帶真空計。 
　　　　3．載片臺尺寸：Ф220mm ，一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
　　　　4．氣路系統(tǒng)：2路進(jìn)氣；2個質(zhì)量流量計，2路顯示。 
　　　　5．手動控制(可以選擇配置工藝過程自動控制)。
　　　　6．均勻性：±5% (4英寸內(nèi))



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